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工业级一水次磷酸钠晶体(NaH2PO2.H2O)生产工艺中的技术问题

来源:102%次磷酸钠生产厂家网址:http://www.coonit.net/浏览数:99

  目前常用的化学镀镍原料次磷酸钠一般为一水合物,对于CAS:10039-56-2,分子式为:NaH2PO2.H2O。但是由于现代化精准化学镀镍的发展,我们的一水次磷酸钠含量往往要求高于100%纯度,通常业界所要求的次磷酸钠纯度达到102%左右。下面我就工业级一水次磷酸钠晶体的生产工艺中一些化学技术问题作简单说明。

  一,一水次磷酸钠晶体生产流程图如下:

黄磷+水→反  应   釜→过  滤→搅拌釜→转  化→过   滤→结  晶→生成一水次磷酸钠

        ↑     ↓     ↓        ↑     ↑      ↓

      碱石灰 磷化氢  滤渣1    CO2   Na2CO2   滤渣2

1,一水次磷酸钠晶体在化学镀过程中,比如化学镀铜工艺中次磷酸根HPO2-被氧化成亚磷酸根HPO32-反应方程式为:Cu2-+ HPO2-+3OH-=Cu+ HPO32-+2H2O

2,在生产一水次磷酸钠晶体的搅拌釜中通入CO2的主要作用是中和过量的碱从而调节溶液的PH值以及除去部分钙离子。加入碳酸钠生成了碳酸钙沉淀。滤渣2的副产物主要是CaCO3.

  二,一水次磷酸钠晶体(NaH2PO2.H2O)生产工艺中需要克服的技术问题有:

   1、有机物的去除。经化验分析,产品中的有机物是硅的化合物形成的胶体,目前业内普遍使用的0.22微米的混合纤维素微孔滤膜,该滤膜不能完全除去有机物,致使产品的纯度不够。通过除去产品中砷、镍、钴等微量元素和有机物杂质,使产品的纯度更高,从而使产品从普通化学镀向硬盘级化学镀的高、精、尖方向延伸,增加产品附加值。

   2、微量元素的除去。砷、镍、钴等微量元素形成的可溶性盐掺杂在产品中,使产品的杂质含量偏高,纯度无法达到高端客户的要求。

  克服以上技术问题是一水次磷酸钠是否能够成功作为国际硬盘生成企业的合格产品的关键所在。在西部数据和日立等硬盘制造过程中对一水次磷酸钠的杂质要求特别严格。

  以上只是工业级一水次磷酸钠晶体(NaH2PO2.H2O)在生产过程中的基本原理,高纯度,杂质少,生产效率高的一水次磷酸钠工艺还有很多很深的技术细节。而一水次磷酸钠的深加工更是需要我们进行不断研发。我国要从次磷酸钠生产大国向次磷酸钠生产强国转变需要从生产技术和市场体制方面双向配合。